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    • LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機(jī)
      LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機(jī)

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:LX-20A

      瀏覽量:3113

      制冷循環(huán)低溫冷凍機(jī)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
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    • LX-145低溫制冷循環(huán)器
      LX-145低溫制冷循環(huán)器

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:LX-145

      瀏覽量:7345

      低溫制冷循環(huán)器使用范圍:對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
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    • LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵
      LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵

      更新時(shí)間:2024-01-18

      型號:LX-0250

      瀏覽量:3915

      低溫冷卻循環(huán)器泵采用阿斯帕拉、丹弗斯、美優(yōu)樂、谷輪等品牌壓縮機(jī),性能穩(wěn)定,可持續(xù)工作,微電腦溫度控制器,溫度數(shù)字顯示,調(diào)節(jié)單位0.1度,溫度范圍5度~35度可調(diào)。
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    • 制冷循環(huán)冷水機(jī)
      制冷循環(huán)冷水機(jī)

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:

      瀏覽量:7243

      制冷循環(huán)冷水機(jī)使用范圍:對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。其他產(chǎn)業(yè)用機(jī)器發(fā)熱部分的冷卻:
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    • LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵
      LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵

      更新時(shí)間:2024-01-18

      型號:LX-70

      瀏覽量:2634

      LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
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    • LX-40制冷循環(huán)器
      LX-40制冷循環(huán)器

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:LX-40

      瀏覽量:2993

      LX-40制冷循環(huán)器使用范圍:對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
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    • LX-25制冷循環(huán)器
      LX-25制冷循環(huán)器

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:LX-25

      瀏覽量:4295

      LX-25制冷循環(huán)器使用范圍:對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
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    • LX-10制冷循環(huán)器
      LX-10制冷循環(huán)器

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:LX-10

      瀏覽量:7087

      LX-10制冷循環(huán)器使用范圍:對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。LX-10產(chǎn)品概述節(jié)省水資源,可以使用水兌乙二醇混合液進(jìn)行循環(huán)制冷,節(jié)約資源;嚴(yán)密的循環(huán)管路設(shè)計(jì),防止循環(huán)水污染。
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